溶膠定轉子剪切高速研磨機?采用分體式結構，轉速高達14000rpm，線速度41m/s，剪切研磨能力強，透過研磨機定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。
一、產品關鍵詞
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二、高剪切研磨機的結構
溶膠定轉子剪切高速研磨機采用分體式結構，轉速高達14000rpm，線速度41m/s，剪切研磨能力強，透過研磨機定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。
三、溶膠的簡介
溶膠是屬于膠體化學范疇，而是研究這些微小顆粒（膠體顆粒）分散體系的科學，通常規定膠體顆粒的直徑大小為1-100nm(也有人主張1-1000nm)。并把直徑為1-100nm的分散相粒子在分散介質里的分散，并且分散相粒子與分散介質之間有明顯物理分界面的稱之為膠體分散體系。習慣上，把分散介質（分散劑）為液體的膠體分散體系稱為液溶膠或溶膠。
液溶膠是指通過水解和聚合作用，形成的有機或無機的納米或微米級的粒子，這些粒子通常帶有電荷，并由于電荷作用，吸附一層溶劑分子，形成由溶劑包覆的納米或微米粒子，即膠體粒子，這些膠體粒子由于帶有電荷而相互排斥，從而能以懸浮狀態存在于溶劑中，即形成溶膠；膠體粒子由于失去電荷，或者包覆在外圈的溶劑層被破壞，膠體粒子發生聚合，溶膠發生固化即形成凝膠。
四、制備溶膠的方法
由于制備溶膠要求分散質以交替狀態分布于介質中，而且這種分散體系能在穩定劑存在下能夠穩定下來。從粒子大小看，由于溶膠粒子小于可濾出的粒子，而大于一般溶液的小分子，故可采用兩種途徑達到：將大塊物質利用研磨機等手段，磨成直徑0.1—1μm的粒子，即分散法；或使更小粒子凝聚成膠體粒子，即凝聚法。
分散法：可以采取機械研磨，超聲作用，電分散或化學法等。
凝聚法：使小分子聚集成膠體粒子zui簡單的辦法是更換溶劑法，例如將乙醇的硫磺溶液倒入水中，形成硫磺的水溶液；也可以利用化學反應生成難溶性產物。在此，難溶性化合物從飽和溶液中吸出的過程中，使其停留在膠粒大小階段。因為晶體粒子成長決定于兩個因素：晶核生長速度W和晶體生長速度Q，所得粒子分散度與W/Q之比值成正比，那些有利于晶核大量生長而減慢晶體生長速度的因素都有利于溶膠形成（不利于得到大晶體）。
五、研磨分散機的原理
GM2000系列溶膠定轉子剪切高速研磨機特別適合于膠體溶液、超細懸浮液和乳液的生產。除了高轉速和靈活可調的定轉子間隙外，GM在摩擦狀態下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉使溶液出現渦流，因此可以達到更好的研磨分散的效果。GM2000整機采用*幾何機構的研磨定轉子，的表面處理和優質材料，可以滿足不同行業的多種需求。
SGN研磨機結構：三道磨碎區：一級為粗磨碎區，二級為細磨碎區，三級為超微磨碎區。我們的磨頭的結構：溝槽的結構式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大，這樣形成了本質的區別。我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨，而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。
六、GM2000系列的特點：
1、定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。
2、齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。
3、溝槽的結構式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
七、GM2000系列設備選型表
型號 | 流量 L/H | 輸出轉速 rpm | 線速度 m/s | 馬達功率 KW | 出/入口連接 |
GM2000/4 | 700 | 9，000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GM2000/5 | 3，000 | 6，000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GM2000/10 | 8，000 | 4，200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
GM2000/20 | 20，000 | 2，850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GM2000/30 | 40，000 | 1，420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GM2000/50 | 80，000 | 1，100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
注：流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到zui大允許量的10%。
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